پاورپوینت پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار (با کیفیت)

پاورپوینت پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار (با کیفیت)

فرمت فایل دانلودی: .zip
فرمت فایل اصلی: .pptx
تعداد صفحات: 21
حجم فایل: 1234 کیلوبایت
قیمت: 14000 تومان

لینک دانلود و خرید پایین توضیحات
دسته بندی : پاورپوینت
نوع فایل :  powerpoint (..pptx) ( قابل ویرایش و آماده پرینت )
تعداد اسلاید : 21 اسلاید

 قسمتی از متن powerpoint (..pptx) : 
 

بنام خدا
پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار  ویژگی ها روش ها و کاربردها
واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد .
یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvd در اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.
از این فرایند برای تولید رسوبهایی از فلزات خالص ‚آلیاژها ‚ترکیبات و سرامیک ها بر روی انواع مختلف زیر لایه ها استفاده می شود
سرعت تشکیل پوشش در این روش تا حد 50 میکرون در دقیقه می تواند باشد .
کاربرد این روش تقریبا تمام زمینه های صنعتی وتکنولوژی را در بر گرفته و دامنه ی وسیعی از خواص سطحی مانند خواص الکتریکی ‚نوری‚مکانیکی وشیمیایی را میتوان توسط آن بهبود بخشید.
روش های ایجاد پوشش های PVD :
1: رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی( (Evaporation deposition
2:پراکنشی( Sputtering )
3:پوشش دهی یونی( Ion Plating )

 

پرداخت با کلیه کارتهای عضو شتاب امکان پذیر است.