پاورپوینت پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما (با کیفیت)

پاورپوینت پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما (با کیفیت)

فرمت فایل دانلودی: .zip
فرمت فایل اصلی: .ppt
تعداد صفحات: 26
حجم فایل: 315 کیلوبایت
قیمت: 14000 تومان

لینک دانلود و خرید پایین توضیحات
دسته بندی : پاورپوینت
نوع فایل :  powerpoint (..ppt) ( قابل ویرایش و آماده پرینت )
تعداد اسلاید : 26 اسلاید

 قسمتی از متن powerpoint (..ppt) : 
 

پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما
چکیده:
جهت پوشش دهی سطح فلزات روش های مختلفی همچون رسوب دهی شیمیایی بخار ( CVD ) و لایه نشانی الکترولیتی کاتد و ... استفاده می شود که 2 روش Sol gel و کاشت یون با پلاسما نیز روش هایی جهت پوشش می باشند. فرآیند Sol gel شامل یکسری واکنش های شیمیایی تغییرناپذیر است که در حقیقت این واکنش ها باعث تبدیل مولکول های محلول هموژن اولیه به عنوان سل به یک مولکول نامحدود سنگین سه بعدی پلیمری به عنوان ژل می شوند و در روش پلاسما اسپری گاز تشکیل دهنده پلاسما که در مرحله شروع قوس آرگن یا هلیم است و پس از برقراری قوس پایدار به ترکیبی از آرگن یا هلیم یا هیدروژن یا نیتروژن تبدیل می شود از بین کاتد و آند عبور کرده و بر اثر تخلیه الکتریکی این ناحیه یونیزه می گردد. مقدار انرژی صرف شده برای یونیزه کردن گاز، در ناحیه ای در خارج گذرگاه مابین کاتد و آند آزاد شده و به گرما تبدیل می گردد و بدین ترتیب دمایی در حدود 15000 درجه سانتیگراد حاصل خواهد شد و مولکول های منبسط شده گاز با سرعتی نزدیک به صوت ذرات ماده پوشش به صورت پودر را که ذوب شده اند، به سمت سطح قطعه خواهند راند و بدین ترتیب پوششی متراکم با چسبندگی بالا حاصل خواهد شد.
مقدمه
روش های مختلف پوشش دهی
1- روش پاشش حرارتی
در این حالت از پودر برای تولید پوشش استفاده می ‌ شود. به این صورت که پودر را با قدرت به سمت قطعه مورد نظر می ‌ پاشیم و در مسیر پاشش، پرتولیزر را قرار می ‌ دهیم. پرتو لیزر با سرعت و قدرت زیاد محیط را گرم می ‌ کند و باعث می ‌ شود پودر در مسیر به صورت مذاب در آید وقتی پودر با سطح تماس پیدا می ‌ کند، به علت اختلاف دما پس از برخورد سریعاً سرد می شود و پوشش نانو ساختار را شکل می ‌ دهد .
شماتیکی از روش پاشش حرارتی
2- روش رسوب دهی شیمیایی بخار ( (CVD
فرآیند CVD در فازگازی انجام می ‌ شود. یعنی مواد واکنش زا گاز هستند و فرآیندهای شیمیایی بین گازها صورت می ‌ گیرد.
این روش لایه نشانی ممکن است از طریق چند نوع واکنش شیمیایی انجام شود: 1 ) پیرولیز که در آن از دمای زیاد برای تجزیة ماده استفاده می ‌ شود؛ 2 ) فوتولیز که در آن از نور فرابنفش یا فروسرخ برای تجزیه ترکیب ‌ های گازی استفاده می شود.
CVD شماتیکی از روش

 

پرداخت با کلیه کارتهای عضو شتاب امکان پذیر است.